常用的溅射方法包括直流溅射、射频溅射、磁控溅射和反应溅射。直流溅射是先将惰性气体产生辉光放电现象产生带电的离子，带电离子经电场加速撞击靶材表面，使靶材原子轰击飞出去，同时产生二次电子在此撞击气体原子从而产生更多的带电离子。靶材原子携带着足够的动能到达衬底的表面进行沉积。射频溅射是利用射频放电等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在接地的基板表面的技术。磁控溅射中电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉积在基片上成膜。

加速度传感器测量系统动态标定主要设备包括线振动台、振动台控制箱、被标定加速度传感器测量系统、标准加速度传感器、数据采集系统、控制计算机等。使用时将被标定的传感器固定在标准线振动台上，传感器的敏感方向与振动台的振动方向保持一致，设置并保持振动台的加速度幅值和振动频率不变，利用数据采集系统测量和采集加速度传感器的输出，改变振动频率，得到一系列振动频率激励下的传感器输出，进而得到传感器的频响曲线。

（1）材料的淀积速率和刻蚀速率；（2）淀积速率和刻蚀速率在圆片上的均匀性；（3）过刻蚀的敏感度；（4）刻蚀的选择性；（5）温度兼容性；（6）全部加工工艺时间和工序数；（7）环境的洁净度要求；（8）淀积和刻蚀的分布。

电荷放大器中加入反馈电阻是为反馈电容提供放电回路，并提高电路稳定性。反馈电阻不能选取的太小，太小的话会引起放大器增益过小，不能选取太大，太大会引起电容无法有效放电，另外反馈电阻还会将运放的失调电流转化为失调电压，影响放大器输出偏置。

MEMS电容式加速度传感器敏感结构包括质量块、支撑梁、固定锚点以及梳齿结构等组件。质量块位于敏感结构的中央，是敏感加速度的关键元件；锚点起结构固定作用；质量块左右两端分别通过支撑梁与固定锚点相连，支撑梁可等效为质量—弹簧—阻尼系统中的单自由度弹簧。梳齿是敏感部件，其电容变化量反应了质量块位移的变化。

（1）采用差动结构；（2）采用运算放大器电路；（3）软件补偿；（4）限制使用范围；（5）加云母等介电常数高的材料；等