MEMS加速度传感器测试卷

部门：_________ 岗位：_________ 姓名：_________ 日期：_________

  • .单选题(共5题，15分)
    • 电容式加速度计不涉及到的工艺步骤为（      ）
    • 以下哪种光刻方式的理论分辨率更高（      ）
    • 半导体工艺中我们常说的7nm制程、14nm制程、28nm制程，其中7nm指的是（      ）
    • 二阶欠阻尼测量系统的幅频特性曲线中，幅值最高处的频率（      ）
    • 下述常用传感器可以等效成二阶传感器系统的是（      ）
  • .判断题(共5题，15分)
    • 工艺中可以通过铝薄膜作为干法刻蚀硅材料的掩膜。 （    ）
    • 前烘的主要目的是去除光刻胶的部分水份，使得能够更好地定型、曝光。 （    ）
    • 测试系统的幅频特性在工作频带内通常是频率的线性函数，而线性测量系统的灵敏度是时间的线性函数。 （    ）
    • 差动式电容传感器的线性度比单极式电容传感器线性度好，所以在实际中尽可能采用差动结构。 （    ）
    • 电容式加速度计是典型的一阶系统。 （    ）
  • .简答题(共6题，70分)
    • 常用溅射技术有哪几种，简述它们的工作原理和特点。









    • 加速度传感器测量系统动态标定装置有哪些？使用时各有什么要求？









    • MEMS工艺中需考虑哪些因素？









    • 简述电荷放大器中反馈电阻的作用？并对反馈电阻的取值范围进行说明。









    • 说明MEMS电容式加速度传感器敏感结构的基本组成组件及其作用









    • 如何改善单极式变极距型电容式传感器的非线性？